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创新驱动
以原子层沉积（ALD）技术为核心
化学气相沉积（CVD）等多种真空薄膜技术梯次发展

原子层沉积 (ALD)技术：

可在复杂形貌上完成可控制在原子层精度的高质量薄膜沉积

具有：

三维共形性，广泛适用于不同形状的基底

大面积成膜的均匀性，且致密、无针孔

可实现亚纳米级的薄膜厚度控制

精确控制纳米叠层和原子掺杂比例

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研发创新

20%

+

研发投入/营收

56200

㎡

生产研发基地

3000

+

专有技术（项）

35%

+

研发人员占比

核心技术团队

专业团队

行业权威，拥有数十年ALD+CVD应用开发经验

工艺开发

团队工艺开发经验丰富，已开发应用数10种氧化物，氮化物，金属等材料

专精ALD厂商

专业ALD

专注ALD工艺和应用场景，涵盖半导体、新型显示、新能源等行业

专业解决方案

针对客户不同需求，专业化和定制化提出解决方案

国内领先前瞻应用定制化

前瞻应用

精通ALD前瞻应用，满足客户各类先进性产品的需求

定制开发

精通ALD工艺及应用场景，为客户定制化开发可量产的工艺及设备

国内唯一全场景Demo设备线

全场景Demo

全场景Demo经验丰富，为客户提供全方位解决方案支持

量产经验

在逻辑、存储、化合物半导体等领域经过量产验证，并获得重复订单

智造创新

我们推行精益生产管理，搭建智能制造协同平台（简称MES），采用Smart Lable等智能工厂物流系统，实现了生产计划排程、生产进度实时分析、生产资源有效分配、 产品质量安全追溯等，进一步缩短采购周期、提升生产效率、降低经营成本，以数字化、智能化制造赋能创新发展。

半导体设备规划产能

总面积≈5000㎡，共三期
年产能：140套

光伏设备规划产能

总面积≈20000㎡
月产能：ALD主机+自动化，40台
扩散/poly/退火/ALD/管P，60台

服务创新

我们始终坚持以客户为中心的服务理念，发挥本土供应商的优势，为客户提供量身定制的全方位服务，持续帮助客户优化系统性能，减少成本，快速响应市场需求。
提供专用/定制工具
1/7
质保期内365天*24小时技术支持
2/7
立即响应客户端需求，重大疑问2小时内给出解决方案，24小时内到达现场处理
3/7
客户端设立备件库，关键/易损部件备货100%，非常规件到达现场<36小时
4/7
质保结束后，每年现场协助客户设备巡检2次，软件终身免费升级
5/7
项目有专职工程师跟踪服务，专业专一
6/7
长期保存图纸，20年零部件供应，解决后顾之忧
7/7
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